贴好的磁控溅射膜需要暴晒的主要目的是去除膜上的有机物，提高膜的质量和稳定性。具体原因包括：
1. 去除溅射过程中产生的有机物：磁控溅射膜制备中常采用有机材料作为靶材，溅射过程中会产生一些有机物质，如残留的有机污染物、挥发性有机化合物等。这些有机物可能会影响膜的性能和稳定性，通过暴晒可以使这些有机物质挥发出去，从而提高膜的质量。
2. 促进膜的氧化和结晶：磁控溅射膜在制备过程中往往具有一定程度的氧化和结晶不完全，通过暴晒可以加速膜中的氧化和结晶反应，从而提高膜的质量和稳定性。
3. 除去挥发性有机物：溅射膜制备过程中可能会使用一些挥发性有机物作为辅助剂或溶剂，在膜成型后需要彻底去除这些有机物才能得到高质量的膜。暴晒可以使这些有机物挥发出去，提高膜的稳定性。
总的来说，磁控溅射膜暴晒的目的是为了去除膜上的有机物，提高膜的质量和稳定性，进而使膜符合特定的应用要求。
